本儀器采用非接觸、光學相移干涉測量方法，測量時不損傷工作表面，能快速測得各種工作表面微觀形貌的立體圖形，并分析計算出測量結果。適用于測量各種量塊、光學零件表面的粗糙度；標尺、度盤的刻線深度；光柵槽形結構；鍍層厚度和鍍層邊界處的結構形貌；磁（光）盤、磁頭表面結構測量；硅片表面粗糙度及圖形結構測量等。儀器測量精度高，重復性好，具有非接觸和三維測量的特點，并采用計算機控制和快速分析、計算測量結果。本儀器適用于各級測量、計算研究單位，工礦企業(yè)計量室，精密加工車間，也適用于高等院校和科學研究單位。

技術參數

表面微觀不平深度測量范圍：1000nm~1nm

測量的重復性：δRa≤0.5nm

測量精度：8nm

物鏡倍率：40×

數值孔徑：0.65

儀器視場：目視φ0.25mm；攝像0.13×0.13mm

儀器放大倍數：目視500×；攝像（計算機屏幕觀察）：2500×

接收器測量陣列：1000×1000

像數尺寸：5.2×5.2μm